| (57) | Abrégé : Un implanteur ionique dans lequel le courant ionique fournit par une source d'ions à metal liquide est amplifié à l'aide de plusieurs dynodes jetables hautement purifiées utilisant le phénomène d'émission d'ions secondaires, les ions issus du processus d'amplification seront accélérés pour implanter une cible, la pénétration des ions dépend de la différence de potentiel entre la dernière dynode et la cible, un électroaimant génère un champ magnétique qui bloque la multiplication des électrons secondaires, pour multiplier et implanter les ions positifs chaque dynode est portée à une valeur de potentiel moins importante que la précédente, ce dispositif offre aussi la possibilité de neutraliser les charges qui se créent durant le processus d'implantation, il suffit de changer les paramètres du dispositif pour que seuls les électrons secondaires soient multipliés, ces électrons vont bombarder la cible, les deux modes de fonctionnement sont répétés avec une fréquence assez élevée. |
